| 掲載のデータは発表時点のものです。価格・仕様等について変更する場合もございます。 |
| 2008年3月19日 |
| リ本No.0817 |
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| 開発の背景と意義 |
| 今回開発したセルの特長 |
| 1. | 次世代の超高効率太陽電池セル実現のための、低反射テクスチャー形成技術を世界で初めて開発 太陽電池のさらなる高効率化のためには、セル表面の反射率を一層低減して受光量を増やす必要があります。反射率を低減する最適構造の1つがハニカムテクスチャー構造※5ですが、従来のハニカムテクスチャー形成技術は量産品への適用が困難でした。当社は世界で初めて※1、レーザーパターニングと湿式エッチングにより、150mm角の多結晶シリコン太陽電池セルの表面にハニカムテクスチャーを形成する技術※6を開発し、実用化の目処をつけました。
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| 2. | pn接合のn層の最適化により受光量を増大 太陽電池の発電量はpn接合※7に達する光の量にも依存します。今回、n層を薄くすることにより受光量を増大し、電流を効率的に取り出すことができました。
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| 3. | 集電用グリッド電極の細線化(従来比約25%減)により、有効発電面積を拡大 | ||||||
| 今後の事業展開 |
| ※8: | 2008年3月19日現在。国内住宅用太陽光発電システム向けパワーコンディショナの量産機種において |
| 特許 |
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