三菱電機株式会社(執行役社長:下村 節宏)は、実用的な150mm角サイズの多結晶シリコン太陽電池セルにおいて、世界最高※1の光電気変換効率※2となる18.6%※3(当社従来比※4 0.6ポイント向上)を達成しました。
| ※1 | 2008年3月19日現在、当社調べ |
| ※2: | 太陽光の光エネルギーを電気エネルギー(直流)に変える効率 |
| ※3: | 変換効率の公的認証機関である産業技術総合研究所(AIST)における評価結果 |
| ※4: | 光電気変換効率18.0%を達成した当社開発品(2007年5月31日発表) |
開発の背景と意義
世界的な環境意識の高まりにより、二酸化炭素(CO2)を排出しない太陽光発電システムが注目されるとともに太陽電池の需要が世界的に拡大しています。一方、太陽電池の原料となるシリコンの需給が逼迫しており、太陽電池を構成する太陽電池セルには、より少量のシリコンでより多く発電することが求められ、シリコンウエハーの薄肉化と、変換効率向上の研究が進められています。
当社は太陽電池セルの高効率化を追求し、今回、受光面の低反射化や、pn接合面への受光量増大、集電用グリッド電極の細線化など独自技術により、実用的な150mm角サイズの多結晶シリコン太陽電池セルで世界最高の変換効率18.6%を達成しました。これにより、狭小屋根など限られた設置スペースでも、より多くの発電量を確保できます。
今回開発したセルの特長
| 1. | 次世代の超高効率太陽電池セル実現のための、低反射テクスチャー形成技術を世界で初めて開発 太陽電池のさらなる高効率化のためには、セル表面の反射率を一層低減して受光量を増やす必要があります。反射率を低減する最適構造の1つがハニカムテクスチャー構造※5ですが、従来のハニカムテクスチャー形成技術は量産品への適用が困難でした。当社は世界で初めて※1、レーザーパターニングと湿式エッチングにより、150mm角の多結晶シリコン太陽電池セルの表面にハニカムテクスチャーを形成する技術※6を開発し、実用化の目処をつけました。
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| 2. | pn接合のn層の最適化により受光量を増大 太陽電池の発電量はpn接合※7に達する光の量にも依存します。今回、n層を薄くすることにより受光量を増大し、電流を効率的に取り出すことができました。
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| 3. | 集電用グリッド電極の細線化(従来比約25%減)により、有効発電面積を拡大 | ||||||
今後の事業展開
なお本件は、2008年9月にスペインで開催される学会「The 23rd European Photovoltaic Solar Energy Conference」にて本成果を発表する予定です。
| ※8: | 2008年3月19日現在。国内住宅用太陽光発電システム向けパワーコンディショナの量産機種において |
特許
国内 18件、海外 7件 出願中
TEL: (0573)66-2153 FAX: なし


